特許
J-GLOBAL ID:200903003750471913
PGD2アンタゴニストの製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (2件):
山内 秀晃
, 杉田 健一
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-536274
公開番号(公開出願番号):特表2004-513894
出願日: 2001年10月16日
公開日(公表日): 2004年05月13日
要約:
【課題】【解決手段】本発明は、ベンゾチオフェンカルボキサミドPGD2アンタゴニストであるS-5751の効率的な製造方法を提供する。
請求項(抜粋):
以下の工程:
(1)(1R)-(+)-ノピオンを強塩基で処理し、対応するエノレートを得る工程;
(2)生成したエノレートをX-CH2-C≡C-(CH2)3CO2R(式中、Xは脱離基およびRはC1-5アルキル)と反応させることにより、化合物(3a):
IPC (1件):
FI (1件):
Fターム (7件):
4H039CA29
, 4H039CA71
, 4H039CB10
, 4H039CD10
, 4H039CD30
, 4H039CF20
, 4H039CL25
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