特許

J-GLOBAL ID：200903003758933584

真空吸着装置

発明者： 露嵜 晴夫 ,  柴山 昭則 ,  宇根 篤暢
出願人/特許権者： 日本電信電話株式会社
代理人 (1件)： 山川 政樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-049581
公開番号（公開出願番号）：特開平8-195428
出願日： 1995年03月09日
公開日（公表日）： 1996年07月30日
要約：

【要約】【目的】 試料の外周部においてもダスト等による影響を受けず、試料を高い平面度に矯正することができるようにする。【構成】 真空吸着器1の上面に真空吸着部3と、これを取り囲むシール部4を設ける。真空吸着部3とシール部4に上面が同一平面を形成するように突子2,11をそれぞれ設け、これらの突子によって試料6を支承する。シール部4と試料6との間に形成される微小隙間12は、真空排気時に大きな抵抗となり外部の空気を吸い込まないようにする。また、加工時には加工液が侵入しないようにする。

請求項（抜粋）：

上面が同一平面上にある多数の突子のみによって試料を支承し、内部に真空ポンプに接続される真空排気孔を設けた真空吸着器を備えた真空吸着装置であって、前記真空吸着器の上面に真空排気孔に連通する真空吸着部を形成するとともに、この真空吸着部を取り囲む環状のシール部を設け、このシール部の突子の高さをきわめて低く設定することによりシール部と試料との間に微小隙間が形成されるようにしたことを特徴とする真空吸着装置。

IPC (3件)：

H01L 21/68 ,  B23Q 3/08 ,  H01L 21/027

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭63-226939
  
• 特開昭62-221130