X線分析装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鈴木利之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-148260
公開番号（公開出願番号）：特開平11-326599
出願日： 1998年05月14日
公開日（公表日）： 1999年11月26日
要約：

【要約】【課題】特定の入射側モノクロメータと焦点サイズが30μm以下のマイクロフォーカスのX線源とを組み合わせることにより、試料に集束するX線の強度を高める。【解決手段】 X線源32と試料50との間にサイド・バイ・サイドの構造の複合モノクロメータ52を配置している。この複合モノクロメータ52は、第1の楕円モノクロメータ38と第2の楕円モノクロメータ40とをその側縁で接合したものである。X線源32の見かけの焦点サイズDは10μmである。この発明はX線の集束効率がすぐれているので、X線管の出力はそれほど大きくしなくてもよい。実施例ではX線管として固定ターゲットを使用していて、その出力は約7Wである。

請求項（抜粋）：

X線源から出射するX線ビームをモノクロメータで反射してから試料に照射するX線分析装置において、次の特徴を備えるX線分析装置。(ア)前記X線源をマイクロフォーカスX線源とする。(イ)前記モノクロメータは、第1の楕円モノクロメータと第2の楕円モノクロメータとで構成した複合モノクロメータである。(ウ)前記第1の楕円モノクロメータの反射面は、焦点軸線が一方向に平行な楕円弧面であり、前記第2の楕円モノクロメータの反射面は、焦点軸線が他方向に平行な楕円弧面であり、前記第1の焦点軸線と前記第2の焦点軸線とが互いにほぼ直交している。(エ)前記第1の楕円モノクロメータの一つの側縁と前記第2の楕円モノクロメータの一つの側縁は互いに接している。(オ)前記一方向から見たときに、前記第1の楕円モノクロメータの第1焦点の位置にX線源が配置されている。(カ)前記他方向から見たときに、前記第2の楕円モノクロメータの第1焦点の位置にX線源が配置されている。(キ)前記第1の楕円モノクロメータと前記第2の楕円モノクロメータは人工多層膜で形成され、この人工多層膜は、回折に寄与する結晶格子面が反射面に平行になっていて、かつ、特定の波長のX線に対して反射面の任意の位置でブラッグの回折条件を満足するように楕円弧に沿って前記結晶格子面の格子面間隔が連続的に変化している。

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