基板処理装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小谷悦司 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-282909
公開番号（公開出願番号）：特開平9-122555
出願日： 1995年10月31日
公開日（公表日）： 1997年05月13日
要約：

【要約】【課題】基板の表面に溶剤やフォトレジスト液等の所定の処理液を供給して所定の処理を行なう基板処理装置において、処理液の加圧給送が停止された後の液吐出ヘッドからの処理液の不要な吐出を抑制する。【解決手段】処理液を溜める液溜め部593及び液溜め部593に連通する液吐出口594を有する液吐出ヘッド59と、この液吐出ヘッド59の液溜め部593に処理液を加圧給送する液給送手段60とを備えて構成され、液吐出ヘッド59にその液溜め部593を外部に連通する開閉可能な連通手段70を設け、液給送手段60による処理液の給送を停止したときに連通手段70を開状態にして液溜め部593を外部に連通するようにした。

請求項（抜粋）：

処理液を溜める液溜め部及びこの液溜め部に連通する液吐出口を有する液吐出ヘッドと、この液吐出ヘッドの液溜め部に処理液を加圧給送する液給送手段とを備えてなる基板処理装置において、上記液吐出ヘッドの液溜め部を外部に連通する開閉可能な連通手段と、上記液給送手段による処理液の給送を停止したときに上記連通手段を開状態にして上記液溜め部を外部に連通する減圧制御手段とを設けたことを特徴とする基板処理装置。

IPC (5件)：

B05C 5/00 , G02F 1/13 101 , G02F 1/1333 500 , G03F 7/16 502 , H01L 21/027

FI (5件)：

B05C 5/00 Z , G02F 1/13 101 , G02F 1/1333 500 , G03F 7/16 502 , H01L 21/30 577

引用特許：

審査官引用 (4件)

流体塗布装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-154410 出願人：平田機工株式会社, シプレイ・ファーイースト株式会社
特開昭54-127940
基板端縁洗浄装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-270875 出願人：大日本スクリーン製造株式会社

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