樹脂構造物形成装置及びその方法並びに樹脂構造物

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：柏木慎史 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-325246
公開番号（公開出願番号）：特開2000-157899
出願日： 1993年05月17日
公開日（公表日）： 2000年06月13日
要約：

【要約】【課題】リソグラフィー技術或いはエッチング技術において、フォトマスクを使用せずにプロセス時間の短縮化や生産コストの低減を図ることが可能なパターン画像形成装置及びその方法を提供する。【解決手段】基板8を保持する基板保持手段7と、前記基板8と相対する位置に配置され液状樹脂を噴射する噴射ヘッド11と、この噴射ヘッド11に液状樹脂噴射情報を入力する情報入力手段18と、この入力された情報に基づいて前記噴射ヘッド11から前記液状樹脂を噴射させ前記基板8上に樹脂滴を付着させる樹脂滴形成手段とよりなる。

請求項（抜粋）：

基板を保持する基板保持手段と、前記基板と相対する位置に配置され液状樹脂を噴射する噴射ヘッドと、この噴射ヘッドに液状樹脂噴射情報を入力する情報入力手段と、この入力された情報に基づいて前記噴射ヘッドから前記液状樹脂を噴射させ前記基板上に樹脂滴を付着させる樹脂滴形成手段とよりなることを特徴とする樹脂構造物形成装置。

IPC (4件)：

B05B 13/04 , G03F 7/20 521 , H01L 21/027 , G03F 7/16

FI (4件)：

B05B 13/04 , G03F 7/20 521 , G03F 7/16 , H01L 21/30 564 Z

引用特許：

審査官引用 (16件)

特開昭61-058792
特開昭63-102936
特開昭63-109052

全件表示

前のページに戻る