特許

J-GLOBAL ID：200903003782158486

光学活性な5-ヒドロキシ-3-ケトエステル誘導体の製造方法

発明者： 小国 信樹 ,  林 昌彦 ,  原田 勝正 ,  松下 明生
出願人/特許権者： 宇部興産株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-212956
公開番号（公開出願番号）：特開平7-126218
出願日： 1994年09月06日
公開日（公表日）： 1995年05月16日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】光学活性5-ヒドロキシ-3- ケトエステル誘導体の新規な製造方法を提供する。【構成】アルデヒド類とジケテンとを-OR2a(R2aは置換されていてもよい炭化水素基を示す)で表される基を持つチタン又はアルミニウムよりなる金属化合物と光学活性なシッフ塩基との存在下、反応させることにより次式の該誘導体を製造する。〔式中、R1は置換されていても良いアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基又は複素環基(縮合されていてもよい)を、R2は置換されていてもよい炭化水素基を示す〕

請求項（抜粋）：

下記の一般式(I):R1 CHO (I)〔式中、R1 は置換されていても良いアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリ-ル基又は複素環基(縮合されていてもよい)を示す〕で表されるアルデヒド類と、下記式:【化1】で表されるジケテンとを、一般式(II): -OR2a (II)(式中、R2aは置換されていてもよい炭化水素基を示す)で表される基を少なくとも1つ持つチタンまたはアルミニウムよりなる金属化合物と光学活性なシッフ塩基との存在下、又は該金属化合物と光学活性なシッフ塩基との反応により得られる複合化合物の存在下に、反応させることにより、下記の一般式(III):【化2】(式中、R1 は前記と同じ意味を示し、R2 は置換されていてもよい炭化水素基を示す)で表される光学活性な5-ヒドロキシ-3-ケトエステル誘導体の製造方法。

IPC (7件)：

C07C 69/716 ,  B01J 31/02 ,  C07B 53/00 ,  C07C 67/46 ,  C07C 69/738 ,  C07B 61/00 300 ,  C07M 7:00