特許
J-GLOBAL ID：200903003790825092

炭酸水の製造装置、製造方法及び電子材料部材の洗浄方法

発明者：
床嶋 裕人

床嶋 裕人 について

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森田 博志

森田 博志 について

, 
小森 英之

小森 英之 について


出願人/特許権者：
栗田工業株式会社

栗田工業株式会社 について


代理人 (1件)： 重野 剛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-209203
公開番号（公開出願番号）：特開2009-040656
出願日： 2007年08月10日
公開日（公表日）： 2009年02月26日
要約：
【課題】高濃度の炭酸水を簡易かつ迅速に製造することができる炭酸水の製造装置及び製造方法と、この製造装置で製造された炭酸水で電子材料部材を洗浄する方法を提供する。【解決手段】原水を、原水配管11を経由して脱気膜モジュール1の液相室1bに供給する。真空ポンプ3を作動させて気相室1c内を減圧する。原水に溶解している溶存ガスが、気体透過膜1aを透過し、気相室及び排気配管13を経由して系外に排出される。脱気水は、脱気水配管12を経由して炭酸ガス溶解膜モジュール2の液相室2b内に流入する。また、炭酸ガス供給器4から、炭酸ガス配管15を経由して気相室1cに炭酸ガスを供給する。所定量の炭酸ガスが、気体透過膜2aを透過し、液相室2b内の脱気水に溶解する。この炭酸ガスを溶解させた脱気水は、炭酸水配管14から流出する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
水に溶解している溶存ガスを脱気する溶存ガス脱気部と、 この脱気された水に炭酸ガスを溶解させる炭酸ガス溶解部と を有することを特徴とする炭酸水の製造装置。
IPC (5件)：
C01B 31/20 ,  B01D 19/00 ,  B01D 61/00 ,  B01D 53/22 ,  H01L 21/304
FI (6件)：
C01B31/20 Z ,  B01D19/00 H ,  B01D19/00 101 ,  B01D61/00 ,  B01D53/22 ,  H01L21/304 647Z
Fターム (38件)：
4D006GA02 ,  4D006GA32 ,  4D006GA35 ,  4D006JA53Z ,  4D006JA71 ,  4D006KA54 ,  4D006KA56 ,  4D006KA64 ,  4D006MB03 ,  4D006MC22 ,  4D006MC23 ,  4D006MC30 ,  4D006MC46 ,  4D006MC49 ,  4D006MC62 ,  4D006MC65 ,  4D006MC81 ,  4D006PB02 ,  4D006PB64 ,  4D006PC01 ,  4D011AA17 ,  4D011AD03 ,  4G146JA02 ,  4G146JB04 ,  4G146JC31 ,  4G146JC36 ,  5F157AC01 ,  5F157AC13 ,  5F157BB04 ,  5F157BC03 ,  5F157BC07 ,  5F157BC41 ,  5F157BD35 ,  5F157BE12 ,  5F157BG72 ,  5F157CD32 ,  5F157CF14 ,  5F157DA21
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (5件)
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