特許
J-GLOBAL ID:200903003802269468

臭気の少ないヒドロゲル形成性ポリマーの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (5件): 矢野 敏雄 ,  山崎 利臣 ,  久野 琢也 ,  アインゼル・フェリックス=ラインハルト ,  ラインハルト・アインゼル
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-503521
公開番号(公開出願番号):特表2005-525445
出願日: 2003年05月12日
公開日(公表日): 2005年08月25日
要約:
本発明は、次の工程:a)アクリル酸を少なくとも50質量%含有しているモノマー組成物を水性重合媒体中でラジカル重合することによってポリマーヒドロゲルを製造し、ヒドロゲルを粒状ヒドロゲルへか又はヒドロゲル形成性粉末へ変換する工程;及び場合によりb)粒状ヒドロゲル又はヒドロゲル形成性粉末を、ポリマーのカルボキシル基に対して反応性である少なくとも2つの官能基を有する架橋的に作用する物質で処理する工程を含んでいるアクリル酸ベースで臭気の少ないヒドロゲル形成性ポリマーの製造方法に関するものであり、工程a)において使用されるアクリル酸が酢酸及び/又はプロピオン酸400ppm未満を含有することにより特徴付けられる。本発明は前記方法により得られることができるヒドロゲル形成性ポリマー及びその使用にも関する。
請求項(抜粋):
アクリル酸ベースで臭気の少ないヒドロゲル形成性ポリマーの製造方法であって、次の工程: a)水性重合媒体中でのアクリル酸少なくとも50質量%を含有しているモノマー組成物のラジカル重合によりポリマーヒドロゲルを製造し、前記ヒドロゲルを粒状ヒドロゲルへか又はヒドロゲル形成性粉末へ変換する工程;及び場合により b)前記粒状ヒドロゲル又は前記ヒドロゲル形成性粉末を、ポリマーのカルボキシル基に対して反応性の少なくとも2つの官能基を場合により潜伏形で有する架橋的に作用する物質で処理する工程; を含むアクリル酸ベースの臭気の少ないヒドロゲル形成性ポリマーの製造方法において、 工程a)において使用されるアクリル酸が、酢酸及びプロピオン酸から選択される揮発性飽和カルボン酸400ppm未満(アクリル酸に対する質量含分)を含有する ことを特徴とする、アクリル酸ベースの臭気の少ないヒドロゲル形成性ポリマーの製造方法。
IPC (6件):
C08F220/06 ,  A61F13/49 ,  A61F13/53 ,  A61L15/60 ,  C08F2/00 ,  C08F8/00
FI (5件):
C08F220/06 ,  C08F2/00 Z ,  C08F8/00 ,  A61F13/18 307A ,  A41B13/02 D
Fターム (42件):
3B029BD22 ,  3B029BF02 ,  4C003AA23 ,  4C003AA24 ,  4C003GA01 ,  4C003HA01 ,  4J011AA05 ,  4J011AA10 ,  4J011AC05 ,  4J100AE01Q ,  4J100AG03Q ,  4J100AG04Q ,  4J100AJ01Q ,  4J100AJ02P ,  4J100AJ02Q ,  4J100AJ03Q ,  4J100AJ09Q ,  4J100AM02Q ,  4J100AM21Q ,  4J100AN04Q ,  4J100AP01Q ,  4J100BA56Q ,  4J100BC68Q ,  4J100CA01 ,  4J100CA04 ,  4J100CA23 ,  4J100CA31 ,  4J100DA71 ,  4J100EA03 ,  4J100FA19 ,  4J100GC25 ,  4J100GC32 ,  4J100HA53 ,  4J100HC09 ,  4J100HC10 ,  4J100HC13 ,  4J100HC34 ,  4J100HC39 ,  4J100HC43 ,  4J100HC48 ,  4J100HC50 ,  4J100JA60
引用特許:
審査官引用 (1件)
  • 視線誘導標識
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平10-140637   出願人:積水樹脂株式会社

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