特許
J-GLOBAL ID：200903003813630715
投影露光方法及び投影露光装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
國分 孝悦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-084155
公開番号（公開出願番号）：特開平6-020916
出願日： 1993年03月17日
公開日（公表日）： 1994年01月28日
要約：
【要約】【目的】 位相シフタ膜と遮光膜との両者の膜を用いた2層構造のフォトマスクを使用することなく、位相シフタ膜と遮光膜の一方の膜の1層構造のパターンのみを有する2つの別個のフォトマスクを使用して、位相シフト法と同様な効果を達成することができるようにする。【構成】 光源101からの光をハーフミラー102によって第1の光P及び第2の光Qに2分割し、第2の光Qの位相をλ/2板103によって180°反転させる。第1の光P及び第2の光Qを各々第1のフォトマスク106及び第2のフォトマスク108に透過させ、透過した第1の光P及び第2の光Qをハーフミラー104によって合成する。第1のフォトマスク106のパターンと第2のフォトマスク108のパターンとが合成され、この合成パターンを縮小投影レンズ105によってウエハ110上に投影する。
請求項（抜粋）：
コヒーレントな成分を有する光をもって、位相シフタ膜と遮光膜の何れか一方の膜の1層構造のパターンを有する第1、第2の個々のフォトマスク素子のそれぞれのパターンを所定位置に配置された基板上に、両パターンの光学的合成パターンが前記基板上に形成されるように投影するステップと、前記第1のフォトマスク素子のパターンを前記基板上に投影する前記光の第1部分と、前記第2のフォトマスク素子のパターンを前記基板上に投影する前記光の第2部分とが所定の位相差を有するように、前記第1の光部分と前記第2の光部分の少なくとも一方の位相を制御するステップとを有する投影露光方法。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
