特許
J-GLOBAL ID：200903003820890048
スチレン系重合体の精製方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大谷 保
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-097573
公開番号（公開出願番号）：特開平5-295028
出願日： 1992年04月17日
公開日（公表日）： 1993年11月09日
要約：
【要約】【目的】 高転化率のスチレン系重合体を効率よく、かつ高純度に精製しうる方法の開発。【構成】 触媒を用いて得られた高度のシンジオタクチック構造を有するスチレン系重合体に、膨潤剤及び失活剤を用いて処理してなるスチレン系重合体の精製方法である。
請求項（抜粋）：
(A)?@アルミノキサンあるいは?Aカチオンと複数の基が金属に結合したアニオンとからなる配位錯化物及び(B)遷移金属化合物からなる触媒を用いて得られた高度のシンジオタクチック構造を有するスチレン系重合体に、膨潤剤及び失活剤を添加して処理することを特徴とするスチレン系重合体の精製方法。
IPC (2件)：
C08F 12/04 MJT
, C08F 4/642 MFH
