特許

J-GLOBAL ID：200903003828947154

ペリクル構造体の姿勢制御機構及び露光方法

発明者： 東川 巌
出願人/特許権者： 株式会社半導体先端テクノロジーズ
代理人 (2件)： 高田 守 ,  高橋 英樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-087806
公開番号（公開出願番号）：特開2004-296829
出願日： 2003年03月27日
公開日（公表日）： 2004年10月21日
要約：

【課題】ペリクル膜の膜面の撓み、振動といった変形を防いで、転写精度を確保する。【解決手段】ペリクル構造体2のペリクル膜3の膜面に近接して配置され、ペリクル膜3の膜面を所定高さに補正する位置補正手段10を有する。この位置補正手段10は、ペリクル膜3の膜面の高さを計測する計測手段15と、この計測値に基づいてペリクル膜3の膜面との間にある気体の圧力を制御をする圧力制御手段16,17を有するのが好ましい。または、ペリクル構造体2が装着されたフォトマスク1を保持するマスクステージ6に設けられ、このマスクステージ6の走査時にペリクル膜3の膜面付近の気流を整流する整流手段11を有する。【選択図】 図2

請求項（抜粋）：

ペリクル構造体のペリクル膜の膜面に近接して配置され、前記ペリクル膜の膜面を所定高さに補正する位置補正手段を有することを特徴とするペリクル構造体の姿勢制御機構。

IPC (2件)：

H01L21/027 ,  G03F7/20

FI (3件)：

H01L21/30 503G ,  G03F7/20 521 ,  H01L21/30 502P