特許

J-GLOBAL ID：200903003857143684

酸化第二セリウム粉末の製造方法

発明者： 内田 義男 ,  渋田 匠
出願人/特許権者： 住友化学工業株式会社
代理人 (3件)： 久保山 隆 ,  中山 亨 ,  榎本 雅之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-205206
公開番号（公開出願番号）：特開2004-043261
出願日： 2002年07月15日
公開日（公表日）： 2004年02月12日
要約：

【課題】一次粒径が100nm以下であり、スラリーにした場合に沈降の少ない酸化第二セリウム粉末を加圧条件を用いることなく製造する方法を提供する。【解決手段】塩化水素と酸素とを含有する雰囲気中でセリウム塩を焼成する酸化第二セリウム粉末の製造方法。以下の工程からなる前記の製造方法。工程1:セリウム塩を仮焼し、仮焼品を得る工程工程2:該仮焼品を、塩化水素と酸素とを含有する雰囲気中で焼成する工程一次粒子径が100nm以下であり、一次粒子が多面体形状を有し、0.5μm以上の一次粒子を含まないことを特徴とする酸化第二セリウム粉末。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

塩化水素と酸素とを含有する雰囲気中でセリウム塩を焼成することを特徴とする酸化第二セリウム粉末の製造方法。

IPC (1件)：

C01F17/00

FI (1件)：

C01F17/00 A

Fターム (7件)：

4G076AA02 ,  4G076AB09 ,  4G076AC01 ,  4G076BA09 ,  4G076BB02 ,  4G076BD02 ,  4G076DA30