特許

J-GLOBAL ID：200903003857239100

浄化装置

発明者： 佐藤 賢志
出願人/特許権者： 松下電工株式会社
代理人 (1件)： 安藤 淳二 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-120467
公開番号（公開出願番号）：特開2000-308896
出願日： 1999年04月27日
公開日（公表日）： 2000年11月07日
要約：

【要約】【課題】 過大汚水流入時にも放流水質の悪化を防止することができる浄化装置を提供する。【解決手段】 浄化槽1内の温度が低温となった際に、曝気処理槽2内の活性汚泥濃度が高くなるように設定し、浄化槽1内の温度が高温となった際に、曝気処理槽2内の活性汚泥濃度が低くなるように設定した。

請求項（抜粋）：

浄化槽内の温度が低温となった際に、曝気処理槽内の活性汚泥濃度が高くなるように設定し、浄化槽内の温度が高温となった際に、曝気処理槽内の活性汚泥濃度が低くなるように設定してなる浄化装置。

IPC (2件)：

C02F 3/12 ,  C02F 3/34 101

FI (2件)：

C02F 3/12 H ,  C02F 3/34 101 C

Fターム (15件)：

4D028AA01 ,  4D028BB07 ,  4D028BC17 ,  4D028BD08 ,  4D028BD16 ,  4D028CA04 ,  4D028CA05 ,  4D028CB02 ,  4D028CB03 ,  4D028CB05 ,  4D028CC05 ,  4D028CD01 ,  4D040BB07 ,  4D040BB63 ,  4D040BB91