マスクパターンデータ作成システムおよびデータ作成方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：京本直樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-334611
公開番号（公開出願番号）：特開2001-156174
出願日： 1999年11月25日
公開日（公表日）： 2001年06月08日
要約：

【要約】【課題】マスクパターンデータの合わせ込み作業に関わる戻り作業のないマスクパターンデータ作成システムおよび方法を提供する。【解決手段】複数のハードマクロを搭載するメインチップとは異なる製造プロセスのハードマクロパターンデータをメインチップの製造プロセスに変換してメインチップのマスクパターンデータの下位階層に階層配置するプロセス変換手段103として、メインチップ側および前記ハードマクロ側のレイヤー情報データとシュリンク情報データとからプロセス変換情報を作成する変換テーブル作成処理手段104と、配置情報部分にプロセス変換情報を付加情報として付加する変換情報付加処理手段106と、付加情報を基にハードマクロパターンデータのプロセス変換を実行しその実行結果のハードマクロを搭載するメインチップのマスクパターンデータを外部記憶装置へ出力する変換処理手段107とを有する。

請求項（抜粋）：

同一の半導体基板上に複数のハードマクロを搭載したメインチップのマスクパターンデータの描画、編集および配置処理を行うパターンデータ作成手段と、前記メインチップおよび前記ハードマクロのパターンデータを入出力する入出力手段と、これら入出力手段および前記パターンデータ作成手段に命令を与え、その処理結果を画面表示する制御手段と、前記ハードマクロパターンデータの製造プロセスを前記メインチップの製造プロセスに変換して前記メインチップのマスクパターンデータの下位階層に階層配置するプロセス変換手段と、このプロセス変換手段で作成したプロセス変換情報を格納するプロセス変換情報格納手段とを備え、前記プロセス変換手段は、メインチップ側およびハードマクロ側それぞれのレイヤー情報データとシュリンク情報データとを入力してプロセス変換に必要なレイヤー変換テーブル情報およびシュリンクテーブル情報を含むプロセス変換情報を作成する変換テーブル作成手段と、前記階層配置時の配置情報部分に前記プロセス変換情報を付加情報として付加する変換情報付加処理手段と、前記付加情報を基に前記ハードマクロパターンデータのプロセス変換を実行しその実行結果のハードマクロを搭載するメインチップのマスクパターンデータを外部記憶装置へ出力する変換処理手段とから構成されることを特徴とするマスクパターンデータ作成システム。

IPC (3件)：

H01L 21/82 , G03F 1/08 , G06F 17/50

FI (5件)：

G03F 1/08 A , H01L 21/82 C , G06F 15/60 654 G , G06F 15/60 658 M , G06F 15/60 658 W

Fターム (18件)：

2H095BB01 , 2H095BB36 , 5B046AA08 , 5B046BA04 , 5B046DA02 , 5B046GA01 , 5B046HA09 , 5F064AA06 , 5F064DD04 , 5F064DD08 , 5F064DD47 , 5F064EE22 , 5F064HH06 , 5F064HH12 , 5F064HH13 , 5F064HH14 , 5F064HH15 , 5F064HH19

引用特許：

出願人引用 (8件)

ハードマクロのパターンデータ生成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-062349 出願人：富士通株式会社, 富士通ヴィエルエスアイ株式会社
レイアウトパターン設計基準・検証ルール作成支援方法及びそのシステム
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-100471 出願人：株式会社東芝
特開平3-214759

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