特許
J-GLOBAL ID：200903003871446525
3次元形状計測装置および3次元形状計測方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
澤田 俊夫
, 宮田 正昭
, 山田 英治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-013114
公開番号（公開出願番号）：特開2004-226186
出願日： 2003年01月22日
公開日（公表日）： 2004年08月12日
要約：
【課題】反射率の低い対象物を計測対象にする場合にも、安定したパターンのエッジ抽出が可能となる。【解決手段】プロジェクタ11によりストライプパターンを対象物10上に投影し、これをカメラ12で撮影する。ストライプパターンは、5種類の階調を有するストライプの組み合わせた部分パターンを繰り返したものである。このストライプパターンにおいては隣接するストライプとの境界近傍にストライプ間の濃度差を強調するためのエッジ強調処理を施す。エッジ強調処理をほどこされた多値パターン光を対象物10に照射し、投光系と主点を異なる位置に配置した撮像手段であるカメラ12にて、対象物10上のパターン投影像を撮像し、投射パターン光とパターン投影像にて対応づけを行う。この対応づけに基づいて三角測量により距離計算を行う。【選択図】 図4
請求項（抜粋）：
複数の濃度を有するストライプの組み合わせで構成されたパターンを対象物に投光する投光手段と、該投光手段と主点を異なる位置に配置した一乃至複数の撮像手段とから構成される3次元形状測定装置において、該ストライプに対し、隣接するストライプとのエッジ近傍にストライプ間の濃度差を強調するためのエッジ強調処理を施したことを特徴とする3次元形状計測装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (10件)：
2F065AA06
, 2F065AA12
, 2F065AA53
, 2F065FF07
, 2F065FF09
, 2F065HH07
, 2F065JJ03
, 2F065QQ03
, 2F065QQ32
, 2F065UU01
