特許

J-GLOBAL ID：200903003873505626

フランジ装置及びこれを用いた横型プロセスチューブ装置

発明者： 福永 伸壱
出願人/特許権者： ソニー株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-172106
公開番号（公開出願番号）：特開平9-022902
出願日： 1995年07月07日
公開日（公表日）： 1997年01月21日
要約：

【要約】【目的】 バックフランジ部の内周面に反応ガスによる反応生成物が付着、堆積することがない横型プロセスチューブ装置を得ること。【構成】 本発明の横型CVD装置1では、プロセスガス供給口4と半導体ウエハSの出入口が形成されているフロントフランジ部6、反応ガスを反応させ、半導体ウエハSの表面を化学処理するチューブ2からなるプロセス部、反応ガスを排気するガス排気部7などが形成されているバックフランジ部8などからなる横型CVD装置において、前記バックフランジ部8に、そのバックフランジ部を加熱するヒータ12と温度センサ13とを設けている。

請求項（抜粋）：

円筒状のフランジ本体にヒータと温度センサとを配設したことを特徴とするフランジ装置。

IPC (4件)：

H01L 21/31 ,  C23C 16/44 ,  H01L 21/22 501 ,  H01L 21/318

FI (4件)：

H01L 21/31 B ,  C23C 16/44 J ,  H01L 21/22 501 D ,  H01L 21/318 B