特許
J-GLOBAL ID:200903003879139940

ジフェニルスルホン化合物の工業的製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 瀬谷 徹 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-078625
公開番号(公開出願番号):特開2000-273081
出願日: 1999年03月23日
公開日(公表日): 2000年10月03日
要約:
【要約】【課題】感熱紙に使われるロイコ染料の顕色剤として有用である一般式(II)で表わされる化合物を生産性、経済性、安全性を備え、かつ安定に原料供給できる製造方法を提供する。【解決手段】従来用いられていた臭化アルキルより反応性の大きい一般式(I)で表わされる沃化アルキル等を用いて製造時間を短縮し、さらに製造廃水から沃素を回収してアルコールに作用させ沃化アルキルを自製する沃素回収工程を製造工程に組み込むことにより沃素を完全に回収再利用でき、従来法より生産性、経済性、安全性を向上させることができた。〔化1〕〔化2〕
請求項(抜粋):
4,4'-ジヒドロキシジフェニルスルホンと一般式(I)【化1】(式中Rは、直鎖もしくは分枝してもよいアルキル基、アルケニル基もしくはアルキニル基;アリル基;または置換基を有してもよいアラルキル基もしくはシクロアルキル基を表す)で表される化合物を塩基の存在下に反応させ、廃水中に含まれる沃化物から沃素を回収し、回収した沃素と反応に用いる沃化アルキルに対応するアルコールから沃化アルキルを製造し、その際排出される廃水中からも、更に沃素を回収して沃化アルキルの製造に再利用し、環境中へ沃素及び/又は沃化物を排出しない沃素回収工程を含むことを特徴とする一般式(II)【化2】(式中、Rは前記と同じ基を表す)で表されるジフェニルスルホン化合物の工業的製造法。
IPC (3件):
C07C315/04 ,  B41M 5/30 ,  C07C317/22
FI (3件):
C07C315/04 ,  C07C317/22 ,  B41M 5/18 108
Fターム (17件):
2H026AA07 ,  2H026BB02 ,  2H026BB30 ,  4H006AA02 ,  4H006AC30 ,  4H006AC43 ,  4H006BA02 ,  4H006BA06 ,  4H006BA29 ,  4H006BA32 ,  4H006BD34 ,  4H006BD51 ,  4H006BD70 ,  4H006TA02 ,  4H006TB13 ,  4H006TB42 ,  4H006TC32

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