レジスト処理装置及び測定方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：金本哲男 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-255628
公開番号（公開出願番号）：特開2000-091183
出願日： 1999年09月09日
公開日（公表日）： 2000年03月31日
要約：

【要約】【課題】加熱処理部で加熱される基板の温度を,熱センサを有するダミー基板によって正確に測定する。【解決手段】加熱処理部43を有するチリングホットプレート41の蓋48に,測定用のピン50を設ける。このピン50は,処理基板としてのウエハWを加熱する際にはウエハWに接触しない。熱電対を有するダミー基板を加熱した際には,ダミー基板に設けられた出力端子にピン50が接触する。測定結果は,処理部51で処理された後,表示部52で表示される。

請求項（抜粋）：

基板上にレジストを塗布して露光装置に受け渡し,前記露光装置から受け取った前記基板を現像処理するレジスト処理装置であって,・少なくとも前記露光装置から受け取った基板を加熱処理する加熱処理部と,・少なくとも前記露光装置と加熱処理部との間で基板を受け渡す搬送機構と,・熱センサを有するダミー基板が待機する待機部と,・前記加熱処理部に配置され,前記搬送機構によって前記基板待機部から前記加熱処理部へ受け渡されて当該加熱処理部で加熱処理された前記ダミー基板の前記熱センサでセンシングされた温度を計測する計測手段とを具備したことを特徴とする,レジスト処理装置。

引用特許：

審査官引用 (3件)

特開昭62-069616
特開昭64-072525
特開平4-219921

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