特許

J-GLOBAL ID：200903003897192653

電子材料の洗浄方法

発明者： 森田 博志
出願人/特許権者： 栗田工業株式会社
代理人 (1件)： 内山 充
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-189617
公開番号（公開出願番号）：特開2002-001243
出願日： 2000年06月23日
公開日（公表日）： 2002年01月08日
要約：

【要約】【課題】高度に清浄な表面が求められる半導体用シリコン基板、液晶用ガラス基板などの電子材料を、RCA洗浄などの高濃度薬液洗浄に匹敵する清浄度に洗浄することができる簡便な電子材料の洗浄方法を提供する。【解決手段】酸を添加したオゾン水で洗浄する酸性オゾン水洗浄工程及びアルカリを添加したオゾン水で洗浄するアルカリ性オゾン水洗浄工程を有することを特徴とする電子材料の洗浄方法。

請求項（抜粋）：

酸を添加したオゾン水で洗浄する酸性オゾン水洗浄工程及びアルカリを添加したオゾン水で洗浄するアルカリ性オゾン水洗浄工程を有することを特徴とする電子材料の洗浄方法。

IPC (8件)：

B08B 3/08 ,  C11D 7/06 ,  C11D 7/08 ,  C11D 7/18 ,  C11D 7/32 ,  C11D 17/08 ,  H01L 21/304 641 ,  H01L 21/304 647

FI (8件)：

B08B 3/08 A ,  C11D 7/06 ,  C11D 7/08 ,  C11D 7/18 ,  C11D 7/32 ,  C11D 17/08 ,  H01L 21/304 641 ,  H01L 21/304 647 Z

Fターム (18件)：

3B201AA03 ,  3B201AB34 ,  3B201BB05 ,  3B201BB62 ,  3B201BB83 ,  3B201BB92 ,  3B201BB93 ,  3B201BB95 ,  3B201BB96 ,  4H003BA12 ,  4H003DA15 ,  4H003DC04 ,  4H003EA03 ,  4H003EA05 ,  4H003EA20 ,  4H003EA23 ,  4H003ED02 ,  4H003FA28