薄膜付き基板およびその製造方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：中村静男 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-031650
公開番号（公開出願番号）：特開平8-292309
出願日： 1996年02月20日
公開日（公表日）： 1996年11月05日
要約：

【要約】【課題】超微粒子の吸収を持ち、干渉縞の影響のない薄膜付き基板を提供する。【解決手段】超微粒子がマトリックス中に分散している超微粒子含有薄膜を透明基板上に設けてなり、超微粒子含有薄膜の屈折率と透明基板の屈折率を実質的に同一にしたことを特徴とする薄膜付き基板。

請求項（抜粋）：

超微粒子が、マトリックス中に分散している超微粒子含有薄膜を透明基板上に設けてなり、超微粒子含有薄膜の屈折率と透明基板の屈折率を実質的に同一にしたことを特徴とする薄膜付き基板。

IPC (4件)：

G02B 5/20 , G02B 1/10 , G02C 7/10 , G03B 11/00

FI (4件)：

G02B 5/20 , G02C 7/10 , G03B 11/00 , G02B 1/10 Z

引用特許：

出願人引用 (3件)

審査官引用 (3件)

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