特許
J-GLOBAL ID:200903003906103731

末端標識プローブアレイの製造方法、並びにそれを用いた標的物質量の評価方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 金田 暢之 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-357446
公開番号(公開出願番号):特開2002-153284
出願日: 2000年11月24日
公開日(公表日): 2002年05月28日
要約:
【要約】【課題】 プローブアレイの逐次的な合成における合成収率の低さに起因する、標的物質を検出する際の感度の低下、信頼性の低下を克服し、高感度で信頼性の高い検出が可能な合成方法と検出方法を提供する。【解決手段】 逐次合成の最終段階において、それまでの各段階の合成によって伸長されたプローブの末端に標識化合物を結合することによって作製された末端標識プローブアレイとその合成方法。さらに、それぞれのマトリクスの標識物質量を測定する、最終段階まで逐次合成された各マトリクスのプローブの量の評価方法。
請求項(抜粋):
プローブアレイ基板表面の複数のマトリクス部位に、標的物質を捕捉するためのプローブをその一部を固定して、該プローブを構成するためのユニットを逐次的に結合していく、逐次合成の際に、該逐次合成の最終段階において、それまでの各段階の合成によって所望の鎖長まで伸長されたプローブの末端に標識化合物を結合することを特徴とする末端標識プローブアレイの合成方法。
IPC (6件):
C12N 15/09 ZNA ,  C12Q 1/68 ,  G01N 31/22 121 ,  G01N 33/53 ,  G01N 33/566 ,  G01N 37/00 102
FI (6件):
C12Q 1/68 A ,  G01N 31/22 121 P ,  G01N 33/53 M ,  G01N 33/566 ,  G01N 37/00 102 ,  C12N 15/00 ZNA F
Fターム (14件):
2G042AA01 ,  2G042BD19 ,  2G042FA11 ,  4B024AA11 ,  4B024AA19 ,  4B024CA01 ,  4B024HA12 ,  4B024HA19 ,  4B063QA01 ,  4B063QQ42 ,  4B063QR32 ,  4B063QR55 ,  4B063QR62 ,  4B063QS32
引用特許:
出願人引用 (1件) 審査官引用 (1件)

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