特許

J-GLOBAL ID：200903003909294309

ポリ(ピリジン-2,5-ジイルビニレン)重合体及び製造法

発明者： 高橋 浩 ,  武内 正隆 ,  八島 秀夫
出願人/特許権者： 昭和電工株式会社
代理人 (1件)： 寺田 實
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-193814
公開番号（公開出願番号）：特開平6-032878
出願日： 1992年07月21日
公開日（公表日）： 1994年02月08日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】ポリ(ピリジン-2,5-ジイルビニレン)及びそのα-スルホニウム塩またはα-アルコキシ体からの脱離反応による製造法の提供。【構成】式(式中、nは10以上の整数。)を繰返し単位とするポリ(ピリジン-2,5-ジイルビニレン)重合体。同重合体に電子受容性または供与性物質を添加した導電性重合体。上記ポリ(ピリジン-2,5-ジイルビニレン)重合体は、(式中、R1,R2はC1〜10のアルチル基、Xはハロゲン)の重合体の置換基の脱離により合成される。【効果】p型及びn型ドーピングが可能な導電性高分子が得られる。さらにこの得られた高分子は、前駆体高分子が溶媒に可溶なため、成膜が容易であり、導体、半導体、光学材料、帯電防止材料等、機能性材料として、電池、表示素子、発行素子、光電変換素子、センサー、トランジスタ等、への応用が可能。

請求項（抜粋）：

式【化1】(式中、nは10以上の整数。)を繰返し単位とするポリ(ピリジン-2,5-ジイルビニレン)重合体。

IPC (2件)：

C08G 61/12 NLJ ,  H01B 1/12