特許
J-GLOBAL ID：200903003915149256
プラズマCVD装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
渡部 剛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-040694
公開番号（公開出願番号）：特開平5-217915
出願日： 1992年01月31日
公開日（公表日）： 1993年08月27日
要約：
【要約】【目的】 非晶質ケイ素感光層等の均一な非晶質感光層を有する小径の電子写真感光体を量産することが可能な、簡単な構造のプラズマCVD装置を提供する。【構成】 反応容器内に設けられた第1の円筒状電極2、該第1の円筒状電極を外包するように設けた第2の円筒状電極3と、第1又は第2の円筒状電極に高周波電圧を印加する手段6と、第2の円筒状電極に開口したガス導入手段7と、第1の円筒状電極および第2の円筒状電極の間において、それら円筒状電極とは導通せず、かつ接地されないように複数の支持体4を保持するための保持手段とを備えたことを特徴とする。
請求項（抜粋）：
反応容器内に設けられた第1の円筒状電極と、該第1の円筒状電極を外包するように設けた第2の円筒状電極と、該第1の円筒状電極および第2の円筒状電極の間に支持体を配設するための手段と、第1又は第2の円筒状電極に高周波電圧を印加する手段と、第2の円筒状電極に開口したガス導入手段と、該第1の円筒状電極および第2の円筒状電極の間において、それら円筒状電極とは導通せず、かつ接地されないように複数の支持体を保持するための保持手段とを備えたことを特徴とするプラズマCVD装置。
IPC (3件)：
H01L 21/205
, C23C 16/50
, H01L 21/31
