特許

J-GLOBAL ID：200903003928014120

露光方法および露光装置ならびに半導体装置の製造方法

発明者： 武久 究 ,  岡崎 信次
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 筒井 大和
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-074244
公開番号（公開出願番号）：特開平10-270327
出願日： 1997年03月26日
公開日（公表日）： 1998年10月09日
要約：

【要約】【課題】 露光光源系の構成を複雑化するような減衰対策を必要とすることなく、真空紫外域のレーザ光を露光光として使用する。【解決手段】 露光光源を構成するレーザ光発生部10と非線形光学結晶22を含む波長変換部20を分離するとともに高剛性のビーム伝送路2を介して一体に接続し、非線形光学結晶22を備えた波長変換部20はクリーンルームの2階フロアー1aに設置されたステッパ本体30の近傍に配置し、大寸法のレーザ光発生部10は、1階フロアー1bに設置する。レーザ光発生部10から得られた大気中で減衰しにくい波長約0.4μmのレーザ光L1は、ビーム伝送路2内を経由して2階フロアー1aへ導かれ、凸レンズ6等で収束されたレーザ光L2として波長変換部20内の非線形光学結晶22に入射し、その第2高調波である波長約0.2μmの真空紫外域の露光光L3が発生し、ステッパ本体30内に導かれる。

請求項（抜粋）：

大気中での減衰率が小さい第1の波長域のレーザ光を非線形光学結晶にて真空紫外域の第2の波長域のレーザ光に変換し、前記第2の波長域の前記レーザ光を露光光として用いることを特徴とする露光方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 505

FI (3件)：

H01L 21/30 515 D ,  G03F 7/20 505 ,  H01L 21/30 516 A