特許

J-GLOBAL ID：200903003942924873

ガス反応装置および表面改質装置

発明者： 野村 修蔵
出願人/特許権者： 野村 修蔵
代理人 (1件)： 井坂 光明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-334332
公開番号（公開出願番号）：特開2005-230587
出願日： 2002年10月15日
公開日（公表日）： 2005年09月02日
要約：

【目的】複数のガスを均一に混合でき、かつ均一に加熱できるガス反応装置及び表面改質装置を提供する。【構成】複数並列状態で配置され周方向に連通した複数の環状流路と、この環状流路における流入口と流出口の位置が周方向にずれるように前記環状流路に形成された複数の流入口及び流出口と、異なる環状流路に形成された前記流入口と前記流出口とを連通した複数の連通流路とからなる熱交換流路と、上記熱交換流路に連通された流体の供給流路および排出流路とを備えたガス反応装置及び表面改質装置とする。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

周方向に連通した環状流路と、この環状流路における流入口と流出口の位置が周方向にずれるように前記環状流路に形成された複数の流入口及び流出口と、環状流路に形成された前記流入口又は前記流出口に連通した複数の連通流路とからなるガス反応流路と、該ガス反応流路に連通された流体の供給流路および排出流路とを備えたガス反応装置。

IPC (2件)：

B01J19/00 ,  C23C16/455

FI (3件)：

B01J19/00 321 ,  B01J19/00 K ,  C23C16/455

Fターム (20件)：

4G075AA03 ,  4G075BA05 ,  4G075BC04 ,  4G075BD12 ,  4G075DA02 ,  4G075EA06 ,  4G075EB21 ,  4G075EB24 ,  4G075EE31 ,  4G075FA05 ,  4G075FA11 ,  4G075FB02 ,  4G075FB04 ,  4K030CA04 ,  4K030CA06 ,  4K030CA12 ,  4K030EA01 ,  4K030EA03 ,  4K030EA11 ,  4K030KA25