特許
J-GLOBAL ID:200903003963427381
ガスから汚染物を除去する方法
発明者:
,
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出願人/特許権者:
代理人 (4件):
浅村 皓
, 浅村 肇
, 安藤 克則
, 小池 誠
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-569553
公開番号(公開出願番号):特表2005-517623
出願日: 2003年02月19日
公開日(公表日): 2005年06月16日
要約:
触媒酸化の使用によって二酸化炭素を精製する。二酸化炭素を少なくとも1種の触媒に曝露し、不揮発性有機残留物の少なくとも一部を酸化し、適用例に送る精製二酸化炭素を形成する。近臨界、臨界、又は超臨界相にある二酸化炭素を触媒に曝露することができる。
請求項(抜粋):
精製二酸化炭素を適用例に送達する方法であって、
a)適用例における前記精製二酸化炭素の使用が、許容される製品をもたらすように、精製二酸化炭素中の不揮発性有機残留物の許容レベルを求めるステップ、
b)前記精製二酸化炭素を生成するように制御された温度で、二酸化炭素を少なくとも1種の触媒に曝露するステップ、及び
c)前記精製二酸化炭素を前記適用例に送るステップを含む方法。
IPC (1件):
FI (1件):
Fターム (7件):
4G146JA02
, 4G146JB04
, 4G146JC18
, 4G146JC19
, 4G146JC22
, 4G146JC37
, 4G146JD10
引用特許:
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