処理装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鈴江武彦 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-155040
公開番号（公開出願番号）：特開2000-349134
出願日： 1999年06月02日
公開日（公表日）： 2000年12月15日
要約：

【要約】【課題】スループットの向上を図ることができる処理装置を提供することにある。【解決手段】真空処理室1と、この真空処理室1と連通するロード・ロック室2と、このロード・ロック室2内に設けられ、真空処理室1にウェーハWを搬入・搬出する搬送アーム6とを備えた処理装置において、前記ロード・ロック室2内にウェーハWのノッチaを検出して位置決めする位置決め機構16を設け、前記ロード・ロック室2の圧力調整と同時に位置決め機構16によってウェーハWのノッチaを検出して位置決めすることを特徴とする。

請求項１：

処理室と、この処理室と連通するロード・ロック室と、このロード・ロック室内に設けられ、前記処理室に被処理体を搬入・搬出する搬送機構とを備えた処理装置において、前記ロード・ロック室内に被処理体の切欠部を検出して被処理体を位置決めする位置決め機構を設け、前記ロード・ロック室の圧力調整と同時に前記位置決め機構によって前記被処理体の切欠部を検出して位置決めすることを特徴とする処理装置。

Fターム (15件)：

5F031GA07 , 5F031GA35 , 5F031GA43 , 5F031GA47 , 5F031GA49 , 5F031JA05 , 5F031JA34 , 5F031JA35 , 5F031KA08 , 5F031KA13 , 5F031KA14 , 5F031LA07 , 5F031LA08 , 5F031MA32 , 5F031NA09

引用特許：

審査官引用 (10件)

特開平2-116125
ウエハ処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-288862 出願人：日立テクノエンジニアリング株式会社
処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-043278 出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社

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