特許
J-GLOBAL ID：200903003970025612
酸化物薄膜成膜方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
塩澤 寿夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-297458
公開番号（公開出願番号）：特開2000-191323
出願日： 1999年10月19日
公開日（公表日）： 2000年07月11日
要約：
【要約】【課題】 均一な厚みを有する酸化物薄膜を製造する方法を提供すること。【解決手段】 フルオロ金属錯体化合物を含有する水溶液に、フッ素捕捉剤を添加して、前記水溶液に浸漬した基材上に、前記フルオロ金属錯体化合物由来の金属酸化物薄膜を析出させる方法であって、前記金属酸化物薄膜の析出を前記水溶液に連続的にまたは断続的にまたは一時的に音波及び/又は超音波を与えながら行う金属酸化物薄膜の製造方法。
請求項（抜粋）：
フルオロ金属錯体化合物を含有する水溶液に、フッ素捕捉剤を添加して、前記水溶液に浸漬した基材上に、前記フルオロ金属錯体化合物由来の金属酸化物薄膜を析出させる方法であって、前記金属酸化物薄膜の析出を前記水溶液に連続的にまたは断続的にまたは一時的に音波及び/又は超音波を与えながら行うことを特徴とする金属酸化物薄膜の製造方法。
IPC (5件)：
C01G 1/02
, C01G 23/04
, C01G 23/053
, C23C 18/12
, B01F 11/02
C01G 1/02
, C01G 23/04 C
, C01G 23/053
, C23C 18/12
, B01F 11/02
