特許
J-GLOBAL ID：200903003971193039
ポジ型フォトレジスト組成物
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小島 隆司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-323191
公開番号（公開出願番号）：特開平7-152155
出願日： 1993年11月29日
公開日（公表日）： 1995年06月16日
要約：
【要約】【構成】 アルカリ可溶性樹脂、高エネルギー線に対して酸を発生する酸発生剤及び分子内に酸によって分解する基を一つ以上有する溶解阻止剤を、下記式(1)【化1】で示される3-メチル-3-メトキシブタノールと下記式(2)【化2】で示される1-エトキシ-2-プロパノールとの混合溶媒に溶解してなることを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。【効果】 本発明のレジスト組成物は、ポジ型レジストとして高エネルギー線に感応し、感度、解像性、プラズマエッチング耐性に優れ、しかもレジストパターンの耐熱性にも優れている。また、本発明のレジスト組成物をウェハー上に塗布すると、塗布膜厚は設定値に容易に一致でき、ウェハー面内での膜厚のバラツキの制御も極めて容易にできることから、パターン寸法の更なる高精度化、微細化の要求にも応えることができる。
請求項（抜粋）：
アルカリ可溶性樹脂、高エネルギー線に対して酸を発生する酸発生剤及び分子内に酸によって分解する基を一つ以上有する溶解阻止剤を、下記式(1)【化1】で示される3-メチル-3-メトキシブタノールと下記式(2)【化2】で示される1-エトキシ-2-プロパノールとの混合溶媒に溶解してなることを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。
IPC (6件)：
G03F 7/039 501
, C08F 12/14 MJY
, G03F 7/004 501
, G03F 7/004 503
, G03F 7/028
, H01L 21/027
