特許

J-GLOBAL ID：200903003972914864

磁気記録媒体の製造方法

発明者： 竹下 弘人 ,  渦巻 拓也
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 伊東 忠彦
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2001003843
公開番号（公開出願番号）：WO2002-091368
出願日： 2001年05月08日
公開日（公表日）： 2002年11月14日
要約：

基板上に単分子膜を形成する単分子膜形成ステップと、磁気情報を記録するための磁性膜を前記単分子膜上に形成する磁性膜形成ステップとを含む磁気記録媒体の製造方法である。単分子膜形成ステップではペリレン系の有機単分子膜を形成することが好ましい。

請求項（抜粋）：

基板上に単分子膜を形成する単分子膜形成ステップと、磁気情報を記録するための磁性膜を前記単分子膜上に形成する磁性膜形成ステップとを含む、ことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。

IPC (3件)：

G11B5/851 ,  G11B5/65 ,  G11B5/738

FI (3件)：

G11B5/851 ,  G11B5/65 ,  G11B5/738