特許

J-GLOBAL ID：200903003992146430

金属被膜欠陥修正方法および金属被膜欠陥修正装置

発明者： 染谷 進
出願人/特許権者： 東京プロセスサービス株式会社
代理人 (1件)： 志賀 正武 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-267699
公開番号（公開出願番号）：特開2002-072449
出願日： 2000年09月04日
公開日（公表日）： 2002年03月12日
要約：

【要約】【課題】 金属被膜の欠損部を補修液を焼成することで修正する際に、修正被膜のガラスへの接着を確実に行うことができる金属被膜欠陥修正方法および金属被膜欠陥修正装置の提供。【解決手段】 欠損部17に滴下された補修液20に対向して金属板23を配置し、該金属板23にレーザ光Bを照射し該金属板23を加熱して補修液20を焼成することにより、欠損部17のガラス部分に滴下された補修液20であっても温度を十分に上昇させる。

請求項（抜粋）：

フォトマスクに形成された金属被膜の欠損部に補修液を滴下させるとともに、前記欠損部に滴下された補修液に対向して金属板を配置し、該金属板にレーザ光を照射して前記補修液を焼成することを特徴とする金属被膜欠陥修正方法。

IPC (2件)：

G03F 1/08 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

G03F 1/08 T ,  H01L 21/30 502 P

Fターム (4件)：

2H095BC05 ,  2H095BD33 ,  2H095BD34 ,  2H095BD39