特許
J-GLOBAL ID:200903003993056990

パターン形成用レジン組成物及びこれを利用するインプレーンプリンティング工程方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (7件): 岡部 正夫 ,  加藤 伸晃 ,  岡部 讓 ,  臼井 伸一 ,  越智 隆夫 ,  朝日 伸光 ,  三山 勝巳
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-174062
公開番号(公開出願番号):特開2009-013225
出願日: 2007年07月02日
公開日(公表日): 2009年01月22日
要約:
【課題】本発明の目的は、フォトマスクが不要であり、パターンの精密度を高めることのできるパターン形成用レジン組成物及びこれを利用するインプレーンプリンティング工程方法を提供することである。【解決手段】本発明は、フォトマスクの代わりにモールド板130を使用してレジスト層120の微細パターンを形成するインプレーンプリンティング工程方法であること、及びレジスト層120を形成するレジンの組成物が、液体状の高分子前駆体と、親水性基のアクリレートと、粘度調節剤と、光開始剤と、添加剤とを含むことを特徴とする。【選択図】図2B
請求項1:
モールド板の加圧成形でパターニングされるパターン形成用レジン組成物において、前記パターン形成用レジン組成物は、 1重量%〜10重量%の液体状の高分子前駆体と、 40重量%〜60重量%の親水性基のアクリレートと、 10重量%〜20重量%の粘度調節剤と、 1重量%〜5重量%の光開始剤と、 残量としての添加剤と を含むことを特徴とするパターン形成用レジン組成物。
IPC (6件):
C08F 220/10 ,  H01L 21/027 ,  C08F 220/22 ,  B29C 59/02 ,  C08F 2/44 ,  C08F 220/28
FI (7件):
C08F220/10 ,  H01L21/30 502R ,  H01L21/30 502D ,  C08F220/22 ,  B29C59/02 Z ,  C08F2/44 C ,  C08F220/28
Fターム (31件):
4F209AA21 ,  4F209AA43 ,  4F209AA44 ,  4F209AC05 ,  4F209AH33 ,  4F209AH73 ,  4F209AJ03 ,  4F209AJ08 ,  4F209AJ09 ,  4F209PA02 ,  4F209PB01 ,  4F209PC01 ,  4F209PC05 ,  4F209PN09 ,  4F209PQ11 ,  4J011AA05 ,  4J011PA65 ,  4J011PA69 ,  4J011PC02 ,  4J011PC08 ,  4J100AL03Q ,  4J100AL08R ,  4J100AL10S ,  4J100AL66P ,  4J100BA02P ,  4J100BA03P ,  4J100BA12R ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100JA38 ,  5F046AA28

前のページに戻る