基板製造方法および装置ならびに表示装置

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：小橋信淳 , 小橋立昌
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-414669
公開番号（公開出願番号）：特開2005-172371
出願日： 2003年12月12日
公開日（公表日）： 2005年06月30日
要約：

【課題】基板に形成された構造物形成材料層の均一な熱処理を行うことが出来るとともに、エネルギ効率が高く、熱処理時間を短縮することが出来る基板製造方法を提供する。【解決手段】基板Pを収容するマイクロ波熱処理炉11と、このマイクロ波熱処理炉11に接続されたマイクロ波発振機12とを備えた基板製造装置によって、構造物形成材料層が形成された基板Pに対してマイクロ波を照射することにより、この基板P上の構造物形成材料層の熱処理を行う。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

基板上に形成された構造物形成材料層に対して熱処理を行うことによって所要の構造物を形成する工程を含む基板の製造方法において、前記基板上に形成された構造物形成材料層に対してマイクロ波を照射することにより熱処理を行うことを特徴とする基板製造方法。

IPC (3件)：

F27D11/12 , B05C9/14 , H05B6/74

FI (4件)：

F27D11/12 , B05C9/14 , H05B6/74 A , H05B6/74 F

Fターム (17件)：

3K090AA02 , 3K090BB03 , 3K090BB10 , 4F042AA06 , 4F042AA10 , 4F042AB00 , 4F042BA19 , 4F042BA22 , 4F042DB51 , 4K063AA05 , 4K063BA12 , 4K063CA01 , 4K063FA82 , 5C028FF14 , 5C040GG09 , 5C040JA28 , 5C040MA10

引用特許：

出願人引用 (1件)

乾燥装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-382761 出願人：大日本印刷株式会社

審査官引用 (7件)

特開平4-115521
特公昭56-016956
特開昭63-294685

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