特許

J-GLOBAL ID：200903004001945727

光学薄膜成膜装置およびこの光学薄膜成膜装置により成膜された光学素子

発明者： 友藤 哲也
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 大西 正悟
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-008755
公開番号（公開出願番号）：特開平11-200017
出願日： 1998年01月20日
公開日（公表日）： 1999年07月27日
要約：

【要約】【課題】 レンズ等の成膜面が曲面で形成された光学素子においても膜厚むらを小さく抑えることができるような光学薄膜成膜装置を得るとともに、この光学薄膜成膜装置によって膜厚むらを小さく抑えた光学薄膜を成膜した光学素子を得る。【解決手段】 真空チャンバ7内に、レンズ基板3を支持して公転もしくは自公転運動させる基板ホルダ2と、複数の蒸発源10a〜10cとを設けており、各蒸発源10a〜10cは蒸発粒子の蒸発量を個別に制御可能となっている。さらに、各蒸発源10a〜10cとレンズ基板3との間には、各蒸発源10a〜10cからの蒸発粒子の拡散方向角を制限する絞り板4が設けられている。また、各蒸発源10a〜10cは、複数の蒸発試料を分離格納可能に構成しており、さらには、分離格納した蒸発試料のうちから所望の蒸発試料を蒸発可能な構成としている。

請求項（抜粋）：

密閉可能に形成された成膜室内に、光学素子を支持するとともにこの光学素子を公転もしくは自公転運動させる素子支持部および前記光学素子の表面に薄膜を形成させるための蒸発粒子を発生させる複数の蒸発源を配設して構成され、前記光学素子表面の成膜厚さを均一化するために前記各蒸発源からの蒸発粒子の蒸発量を個別に制御可能としたことを特徴とする光学薄膜成膜装置。

IPC (5件)：

C23C 14/24 ,  C23C 14/50 ,  C23C 14/54 ,  G02B 1/10 ,  G02B 1/11

FI (5件)：

C23C 14/24 U ,  C23C 14/50 H ,  C23C 14/54 A ,  G02B 1/10 Z ,  G02B 1/10 A

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特公昭53-031829
  
• 特公昭57-051260