特許

J-GLOBAL ID：200903004017173406

化学増幅型ポジ型フォトレジスト製造用重合体及びこれを含有するフォトレジスト

発明者： パーク ジョー-ヒュエオン ,  キム セオン-ジュ ,  キム ジ-ホン ,  キム キ-ダエ
出願人/特許権者： クンホセオキュホアハクジュシクヘサ
代理人 (1件)： 石田 敬 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-279049
公開番号（公開出願番号）：特開平10-147619
出願日： 1997年10月13日
公開日（公表日）： 1998年06月02日
要約：

【要約】【課題】 遠紫外線、KrFエキシマレーザー等の放射線に対して高感度、高解像性、高耐熱性を有する化学増幅型ポジ型フォトレジスト製造用重合体及びこれを含有するフォトレジスト組成物を提供する。【解決手段】 反復単位が次の一般式(I)で表示される重合体及びこれを主成分とする化学増幅型ポジ型フォトレジスト材料である。【化1】前記式において、R1 、R2 及びR3 はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基であり、R4 は水素原子、アルキル基又はアルコキシ基であり、R5 、R6 及びR7 はそれぞれ独立に水素原子、メチル基、エチル基、t-ブチル基、テトラヒドロピランイル基又はアルコキシメチレン基であり、j=1〜8、k=0〜8の整数であり、l、m及びnはそれぞれ反復単位を示す数で、l+m+nは1である。

請求項（抜粋）：

反復単位が次の一般式(I)で表示され、ポリスチレン換算重量平均分子量が2,000〜1,000,000であり、分子量分布が1.0〜5.0であることを特徴とする重合体。【化1】前記式において、R1 、R2 及びR3 はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基であり、R4 は水素原子、アルキル基又はアルコキシ基であり、R5 、R6 及びR7 はそれぞれ独立に水素原子、メチル基、エチル基、t-ブチル基、テトラヒドロピランイル基又はアルコキシメチレン基であり、j=1〜8、k=0〜8の整数であり、l、m及びnはそれぞれ反復単位を示す数で、l+m+nは1である。

IPC (8件)：

C08F212/14 ,  C08F220/00 ,  C08F220/30 ,  C08L 25/18 ,  C08L 33/00 ,  C08L 33/14 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027

FI (8件)：

C08F212/14 ,  C08F220/00 ,  C08F220/30 ,  C08L 25/18 ,  C08L 33/00 ,  C08L 33/14 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R

引用特許：

審査官引用 (1件)

• ポジティブフォトレジスト製造用重合体及びこれを含有する化学増幅型ポジティブフォトレジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-254889   出願人：クンホセオキュホアハクジュシクヘサ