特許
J-GLOBAL ID:200903004028831006
光磁気記録媒体、その製造方法、および光磁気記録媒体の再生方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (2件):
吉田 稔
, 田中 達也
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-343579
公開番号(公開出願番号):特開2005-108379
出願日: 2003年10月01日
公開日(公表日): 2005年04月21日
要約:
【課題】 高記録密度媒体の実用化を図るうえで好適な再生層内磁壁移動を達成することのできる、DWDD方式の光磁気記録媒体、その製造方法、および、光磁気記録媒体の再生方法を提供すること。【解決手段】 記録機能を担うための記録層11と、磁壁移動を伴う再生機能を担うための再生層13と、記録層11および再生層13の間に介在して当該記録層11および再生層13の交換結合状態を変化させるための中間層12と、を備える光磁気記録媒体X1において、中間層12から遠のくほど垂直磁気異方性が増大するように、再生層13の磁性構造を構成する。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
記録機能を担うための記録層と、
磁壁移動を伴う再生機能を担うための再生層と、
前記記録層および前記再生層の間に介在して当該記録層および再生層の交換結合状態を変化させるための中間層と、を備え、
前記再生層では、前記中間層から遠のくほど垂直磁気異方性が増大する、光磁気記録媒体。
IPC (1件):
FI (5件):
G11B11/105 511H
, G11B11/105 511C
, G11B11/105 516K
, G11B11/105 546B
, G11B11/105 586M
Fターム (6件):
5D075CC12
, 5D075FF04
, 5D075FF11
, 5D075FF13
, 5D075GG03
, 5D075GG16
引用特許:
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