特許
J-GLOBAL ID：200903004035521675
光触媒薄膜の形成方法、光触媒薄膜形成用型、及び光触媒薄膜
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-242100
公開番号（公開出願番号）：特開平11-071138
出願日： 1997年08月22日
公開日（公表日）： 1999年03月16日
要約：
【要約】【課題】 薄膜の表面形状及び露出固定される光触媒のサイズを制御可能とする光触媒薄膜の形成方法の提供。【解決手段】 粒径1nm〜500μmの微粒子を型材表面に適用して微粒子層を形成する工程と、前記微粒子層の間隙及び微粒子上に光触媒粒子及び/又は光触媒前駆体を適用する工程と、必要に応じて前記光触媒前駆体を光触媒粒子に変換する工程と、前記光触媒粒子及び/又は光触媒前駆体を適用した表面上に基材を配置する工程と、前記型材を前記微粒子層から離型させる工程と、前記微粒子層の離型面の一部を溶解させて前記微粒子層の間隙に存在する光触媒を外気に露出させる工程とを含むことを特徴とする光触媒薄膜の形成方法。
請求項（抜粋）：
粒径1nm〜500μmの微粒子を型材表面に適用して微粒子層を形成する工程と、前記微粒子層の間隙及び微粒子上に光触媒粒子及び/又は光触媒前駆体を適用する工程と、必要に応じて前記光触媒前駆体を光触媒粒子に変換する工程と、前記光触媒粒子及び/又は光触媒前駆体を適用した表面上に基材を配置する工程と、前記型材を前記微粒子層から離型させる工程と、前記微粒子層の離型面の一部を除去して前記微粒子層の間隙に存在する光触媒を外気に露出させる工程とを含むことを特徴とする光触媒薄膜の形成方法。
IPC (7件)：
C03C 17/38
, B01J 21/08 ZAB
, B01J 23/06
, B01J 23/38
, B01J 23/70
, B01J 35/02
, C03C 17/27
C03C 17/38
, B01J 21/08 ZAB A
, B01J 23/06 A
, B01J 23/38 A
, B01J 23/70 A
, B01J 35/02 J
, C03C 17/27
