特許

J-GLOBAL ID：200903004035560131

フォーカス確認方法

発明者： 菅原 健一
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (3件)： 岩橋 文雄 ,  坂口 智康 ,  内藤 浩樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-041098
公開番号（公開出願番号）：特開2005-235896
出願日： 2004年02月18日
公開日（公表日）： 2005年09月02日
要約：

【課題】フォーカス管理用パターンと半導体装置の回路パターンの形状が異なることから、フォーカス特性が乖離し、最も重要な回路パターンのフォーカス安定性に欠ける問題点を有していた。【解決手段】ウエハ上に形成した、段差低部領域1と段差高部領域2の段差量Dを測定する。次に、ウエハ上にフォーカス確認用パターン3を形成する。次に段差低部領域1上に形成されたフォーカス確認パターン3の寸法L1と、段差高部領域2上に形成されたフォーカス確認パターン3の寸法L2を寸法測定装置によって測定する。 次に前記段差量Dと前記寸法L1及びL2の関係から、予めフォーカス確認用パターンの焦点位置とパターン寸法の関係を測定し算出した焦点寸法理論曲線11と比較することにより、最適フォーカス位置を求める。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

半導体基板上に2段以上の段差を形成する工程と、各段差上にフォーカス確認パターンを形成する工程と、前記段差上に形成された前記フォーカス確認パターンの寸法を計測する工程と、半導体基板上に形成された前記段差の段差量を計測する工程と、計測された各段差におけるパターン寸法と段差量に基づいてフォーカス位置を求める工程を含むことを特徴とするフォーカス確認方法。

IPC (1件)：

H01L21/027

FI (1件)：

H01L21/30 526Z

Fターム (6件)：

5F046BA04 ,  5F046DA14 ,  5F046DB04 ,  5F046EA03 ,  5F046EB05 ,  5F046EC03

引用特許：

出願人引用 (1件)

• フォーカスモニタ方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-172625   出願人：株式会社東芝