特許

J-GLOBAL ID：200903004048477950

ポジ型レジスト組成物

発明者： 漢那 慎一 ,  水谷 一良 ,  佐々木 知也
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 小栗 昌平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-152581
公開番号（公開出願番号）：特開2003-345022
出願日： 2002年05月27日
公開日（公表日）： 2003年12月03日
要約：

【要約】【課題】 160nm以下、特にF2エキシマレーザー光(157nm)の露光光源の使用に好適なポジ型レジスト組成物を提供することであり、具体的には157nmの光源使用時に十分な透過性を示し、現像時間依存性の小さいポジ型感光性組成物を提供すること。【解決手段】 (A)ポリマー骨格の主鎖及び/又は側鎖にフッ素原子が置換した構造を有し、且つ酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解度を増大する基を有するフッ素基含有樹脂、及び(B)活性光線又は放射線の照射により、少なくとも1つのフッ素原子を有する基で置換された芳香族スルホン酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。

請求項（抜粋）：

(A)ポリマー骨格の主鎖及び/又は側鎖にフッ素原子が置換した構造を有し、且つ酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解度を増大する基を有するフッ素基含有樹脂、及び(B)活性光線又は放射線の照射により、少なくとも1つのフッ素原子を有する基で置換された芳香族スルホン酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。

IPC (6件)：

G03F 7/039 601 ,  C08F 12/14 ,  C08F 14/18 ,  C08F 32/00 ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/027

FI (6件)：

G03F 7/039 601 ,  C08F 12/14 ,  C08F 14/18 ,  C08F 32/00 ,  G03F 7/004 503 A ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (27件)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA04 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB08 ,  2H025CB10 ,  2H025CB14 ,  2H025CB16 ,  2H025CB41 ,  2H025FA17 ,  4J100AB07P ,  4J100AC26P ,  4J100AC27P ,  4J100AR11P ,  4J100BA02P ,  4J100BA03P ,  4J100BB18P ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100JA38