特許

J-GLOBAL ID：200903004057187493

光学フィルタの製造方法および薄膜製造装置

発明者： 広瀬 満
出願人/特許権者： 日本電産コパル電子株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-292737
公開番号（公開出願番号）：特開2003-098342
出願日： 2001年09月26日
公開日（公表日）： 2003年04月03日
要約：

【要約】【課題】 成膜時間の短縮が可能で、重量バランスが取り易く、高速回転に最適な光学フィルタの製造方法を提供する。また、前記光学フィルタに使用する各種フィルタ用誘電体多層膜の成膜に最適な薄膜製造装置を提供する。【解決手段】 透明基板の所定領域における誘電体多層膜の成膜速度あるいは膜厚と他の領域における成膜速度あるいは膜厚を各々個別に制御することにより、1つの成膜工程で透過帯域の異なる誘電体多層膜を同時に形成するとともに、前記所定領域に透過帯域をシフトさせた短波長透過フィルタ用の誘電体多層膜と、透過帯域をシフトさせた長波長透過フィルタ用の誘電体多層膜とをお互いの光学的干渉を防止する中間層を介して積層させることにより、該所定領域に帯域透過フィルタを形成する工程を備えることにより光学フィルタの製造方法を構成する。

請求項１：

光を透過する1枚の透明基板上に少なくとも短波長透過フィルタ、長波長透過フィルタ及び帯域透過フィルタを備えてなる光学フィルタの製造方法において、前記透明基板の所定領域における短波長透過フィルタ用の誘電体多層膜の成膜速度あるいは膜厚と他の領域における成膜速度あるいは膜厚及び該所定領域における長波長透過フィルタ用の誘電体多層膜の成膜速度あるいは膜厚と他の領域における成膜速度あるいは膜厚とを各々個別に制御することにより、1つの成膜工程で透過帯域の異なる誘電体多層膜を同時に形成するとともに、前記所定領域に透過帯域をシフトさせた短波長透過フィルタ用の誘電体多層膜と、透過帯域をシフトさせた長波長透過フィルタ用の誘電体多層膜とをお互いの光学的干渉を防止する中間層を介して積層させることにより、該所定領域に帯域透過フィルタを形成したことを特徴とする光学フィルタの製造方法。

IPC (4件)：

G02B 5/28 ,  C23C 14/24 ,  G02B 1/10 ,  G02B 5/20

FI (4件)：

G02B 5/28 ,  C23C 14/24 T ,  G02B 5/20 ,  G02B 1/10 Z

Fターム (27件)：

2H048AA07 ,  2H048AA09 ,  2H048AA12 ,  2H048AA19 ,  2H048AA22 ,  2H048AA24 ,  2H048AA26 ,  2H048GA07 ,  2H048GA12 ,  2H048GA23 ,  2H048GA25 ,  2H048GA33 ,  2H048GA60 ,  2H048GA61 ,  2K009BB02 ,  2K009CC03 ,  2K009CC42 ,  2K009DD01 ,  2K009EE00 ,  4K029AA09 ,  4K029BA46 ,  4K029BA48 ,  4K029BB02 ,  4K029BB03 ,  4K029BC07 ,  4K029CA01 ,  4K029HA00