特許
J-GLOBAL ID:200903004076078441
共焦点走査型顕微鏡を用いた寸法測定装置
発明者:
出願人/特許権者:
,
代理人 (1件):
外川 英明
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-186756
公開番号(公開出願番号):特開2000-018928
出願日: 1998年07月02日
公開日(公表日): 2000年01月21日
要約:
【要約】【課題】 液晶表示素子や半導体素子の配線パターンの寸法を高精度で測定できる寸法測定装置を提供する。【解決手段】 共焦点走査型顕微鏡を測定手段として用い、この共焦点顕微鏡によって得られた被測定物からの戻り光をその強度に応じた電圧レベルの映像信号に変換する撮像手段と、撮像手段から出力される映像信号に基づいて被測定物の画像を生成しモニタに出力する画像処理手段とを具備し、モニタ上に表示された被測定物画像の所定位置をポインティングデバイス等の入力手段によって指定するとその指定位置に対応する前記映像信号のレベルと時間的にその前後の映像信号のレベルとを比較しそのレベル差に応じて対物レンズを前記検査ステージに対して上下させる。
請求項(抜粋):
被測定物を載置する検査ステージと、前記被測定物を照射する光源と、前記光源と前記被測定物との間に配置され、前記光源光を透過するビームスプリッタと、前記ビームスプリッタと前記被測定物との間に配置され、前記ビームスプリッタからの透過光を透過する透光部を有するニポウディスクと、前記ニポウディスクと前記被測定物との間に配置された対物レンズと、前記ビームスプリッタによって反射される前記被測定物からの戻り光を検知し戻り光強度に応じたレベルの映像信号に変換する撮像手段と、前記映像信号に基づいて被測定物の画像を生成しモニタに出力する画像処理手段と、前記モニタに表示された被測定物画像の所定位置を指定する入力手段と、前記入力手段によって指定された位置に対応する前記映像信号のレベルとその前後のレベルとを比較しそのレベル差に応じて前記対物レンズを前記検査ステージに対して上下させる制御手段とを有することを特徴とする共焦点走査型顕微鏡を用いた寸法測定装置。
IPC (3件):
G01B 11/24
, G02F 1/13 101
, H01L 21/66
FI (3件):
G01B 11/24 F
, G02F 1/13 101
, H01L 21/66 P
Fターム (32件):
2F065AA22
, 2F065CC00
, 2F065CC17
, 2F065DD14
, 2F065FF04
, 2F065HH04
, 2F065JJ03
, 2F065JJ26
, 2F065LL00
, 2F065LL04
, 2F065MM22
, 2F065PP24
, 2F065QQ31
, 2H088FA11
, 2H088FA30
, 4M106AA20
, 4M106BA10
, 4M106CA40
, 4M106CA70
, 4M106DB04
, 4M106DB07
, 4M106DB11
, 4M106DB12
, 4M106DB13
, 4M106DB18
, 4M106DB19
, 4M106DB20
, 4M106DB30
, 4M106DJ18
, 4M106DJ23
, 4M106DJ39
, 4M106DJ40
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