磁気記録媒体の磁化パターン形成方法及び製造方法、磁気記録媒体、並びに磁気記録装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：長谷川曉司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-134611
公開番号（公開出願番号）：特開2001-331902
出願日： 2000年05月08日
公開日（公表日）： 2001年11月30日
要約：

【要約】【課題】効率よく精度よく、しかも媒体やマスクを傷つけることなく欠陥発生の少ない磁化パターンを、短時間で磁気記録媒体に形成する。さらに、高密度記録が可能な磁気記録媒体及び磁気記録装置を短時間かつ安価に提供する。【解決手段】基板上に少なくとも1層の磁性薄膜と保護層と潤滑層を順次有してなる磁気記録媒体に対し、媒体上にエネルギー線の濃淡を形成するマスク手段を通して該媒体にエネルギー線を照射し該磁性薄膜を局所的に加熱する工程と、該磁性薄膜に外部磁界を印加する工程とを含む磁化パターンの形成方法であって、少なくとも該媒体の磁化パターン形成領域では、該マスク手段と該媒体とのあいだに間隙を設ける磁気記録媒体の磁化パターン形成方法、及びそれにより磁化パターンを形成した磁気記録媒体並びにそれを用いた磁気記録装置。

請求項（抜粋）：

基板上に少なくとも1層の磁性薄膜と保護層と潤滑層を順次有してなる磁気記録媒体に対し、マスク手段を通して該媒体にエネルギー線を照射し該磁性薄膜を局所的に加熱する工程と、該磁性薄膜に外部磁界を印加する工程とを含む磁化パターンの形成方法であって、少なくとも該媒体の磁化パターン形成領域では、該マスク手段と該媒体とのあいだに間隙を設けることを特徴とする磁気記録媒体の磁化パターン形成方法。

IPC (4件)：

G11B 5/02 , G11B 5/64 , G11B 5/84 , G11B 21/10

FI (4件)：

G11B 5/02 S , G11B 5/64 , G11B 5/84 Z , G11B 21/10 W

Fターム (17件)：

5D006AA01 , 5D006AA02 , 5D006AA05 , 5D006AA06 , 5D006BB07 , 5D006CA03 , 5D006DA03 , 5D006FA00 , 5D091AA10 , 5D091CC01 , 5D091CC30 , 5D096WW03 , 5D112AA05 , 5D112AA24 , 5D112DD01 , 5D112GA19 , 5D112GB01

引用特許：

審査官引用 (3件)

特開平4-034744
特開昭64-049001
特開平4-073766

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