特許

J-GLOBAL ID：200903004086755352

ビス(アミノシクロヘキシル)誘導体及びその製造方法

発明者： 永井 直 ,  加藤 高蔵 ,  三田 成良
出願人/特許権者： 三井化学株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-223642
公開番号（公開出願番号）：特開2003-040843
出願日： 2001年07月24日
公開日（公表日）： 2003年02月13日
要約：

【要約】【課題】 新規なビス(アミノシクロヘキシル)誘導体およびその塩とその製造方法を提供する。【解決手段】(1)一般式(I)で示されるビス(アミノシクロヘキシル)誘導体およびその塩。(2)一般式(I)で示されるビス(アミノシクロヘキシル)誘導体およびその塩を、対応するビス(アミノフェニル)誘導体および/またはその塩から水素化反応により製造する。【化1】(式中、Xは一般式(II)または一般式(III)で示されるフェニレン基を表す。)【化2】【化3】

請求項（抜粋）：

一般式(I)で示されるビス(アミノシクロヘキシル)誘導体およびその塩。【化1】(式中、Xは一般式(II)または一般式(III)で示されるフェニレン基を表す。)【化2】【化3】

IPC (2件)：

C07C211/40 ,  C07C209/72

FI (2件)：

C07C211/40 ,  C07C209/72

Fターム (6件)：

4H006AA01 ,  4H006AA02 ,  4H006AB46 ,  4H006AB48 ,  4H006AC11 ,  4H006BE20