特許

J-GLOBAL ID：200903004091498627

レーザ描画装置

発明者： 吉岡 正喜
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 杉谷 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-119527
公開番号（公開出願番号）：特開2001-305446
出願日： 2000年04月20日
公開日（公表日）： 2001年10月31日
要約：

【要約】【課題】 基準スケールに複雑な構成の特異点を設けることなく簡易な構成で走査画素の記録密度むらを補正するレーザ描画装置を提供すること。【解決手段】 ラスターデータに基づいて変調されたレーザビームをポリゴンミラー67で主走査方向に偏向させて描画ステージ5上の基板に照射させるとともに、描画ステージ5を副走査方向に移動させてパターン描画するレーザ描画装置において、光の透過特性が異なる第1,第2領域とが交互に主走査方向に並べられこれらの領域にポリゴンミラー67で偏向されたレーザビームが照射される基準スケール75と、基準スケール75からのレーザビームを検出する光検出器76と、光検出器76からの基準クロック信号aに基づいて描画クロック信号fを生成する描画クロック生成回路122とを備え、基準スケール75は、走査開始側の先頭領域がこれに後続する第1,第2領域の主走査方向の幅よりも広く形成されている。

請求項（抜粋）：

描画クロックで読み出されるラスターデータに基づいて生成される描画信号によりレーザビームを変調し、この変調されたレーザビームを偏向手段で主走査方向に偏向させて処理対象物に照射させるとともに、副走査方向にレーザビームと前記処理対象物とを移動手段で相対的に移動させることにより所望のパターンを前記処理対象物に描画するレーザ描画装置において、光特性が異なる第1領域と第2領域とが交互に主走査方向に並べられ、これらの領域に前記偏向手段で偏向されたレーザビームが照射される格子部と、前記格子部からのレーザビームを検出する検出手段と、前記検出手段からの検出信号に基づいて前記描画クロックを生成する信号生成手段とを備えるとともに、前記格子部は、走査開始側にあたる先頭領域がこれに後続する第1および第2領域の主走査方向の幅よりも広く形成されていることを特徴とするレーザ描画装置。

IPC (4件)：

G02B 26/10 ,  B41J 2/44 ,  H04N 1/113 ,  H04N 1/23 103

FI (5件)：

G02B 26/10 A ,  G02B 26/10 D ,  H04N 1/23 103 Z ,  B41J 3/00 D ,  H04N 1/04 104 A

Fターム (32件)：

2C362BB09 ,  2C362BB29 ,  2C362BB30 ,  2C362BB31 ,  2C362BB32 ,  2C362BB37 ,  2C362BB38 ,  2C362BB39 ,  2C362CB71 ,  2H045AA01 ,  2H045BA26 ,  2H045BA32 ,  2H045CA85 ,  2H045CA89 ,  2H045CA98 ,  2H045DA02 ,  5C072AA03 ,  5C072BA02 ,  5C072BA17 ,  5C072HA02 ,  5C072HA13 ,  5C072HB08 ,  5C072HB11 ,  5C072UA11 ,  5C072UA14 ,  5C074AA02 ,  5C074BB03 ,  5C074CC22 ,  5C074CC26 ,  5C074DD16 ,  5C074EE02 ,  5C074EE06