特許
J-GLOBAL ID：200903004097283215

シリカ多孔体の製造方法

発明者：
天良 智尚

天良 智尚 について

, 
橋田 卓

橋田 卓 について


出願人/特許権者：
松下冷機株式会社

松下冷機株式会社 について

, 
松下電器産業株式会社

松下電器産業株式会社 について


代理人 (1件)： 岩橋 文雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-109377
公開番号（公開出願番号）：特開2001-294418
出願日： 2000年04月11日
公開日（公表日）： 2001年10月23日
要約：
【要約】【課題】 シリル化剤にてシリカ多孔体の疎水化を実施すると、疎水化のプロセスが複雑化すると共に、中和処理や溶媒置換に要する設備負担が増大する等、量産化の弊害となっていた。【解決手段】 シリカ湿潤ゲルの分散媒を乾燥して形成するシリカ多孔体の製造方法において、シリカ湿潤ゲルを炭素数3以上の第1アルコールの液相中で加熱して疎水化を施すことを特徴とする。
請求項（抜粋）：
シリカ湿潤ゲルの分散媒を乾燥して形成するシリカ多孔体の製造方法において、シリカ湿潤ゲルを炭素数3以上の第1アルコールの液相中で加熱処理する疎水化工程を含むことを特徴とするシリカ多孔体の製造方法。
Fターム (8件)：
4G072AA25 ,  4G072BB15 ,  4G072GG03 ,  4G072HH19 ,  4G072JJ38 ,  4G072KK13 ,  4G072QQ07 ,  4G072UU30
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (3件)

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