特許

J-GLOBAL ID：200903004124585539

ポジ型フォトレジスト組成物

発明者： 上西 一也 ,  佐藤 健一郎 ,  青合 利明
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 小栗 昌平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-108727
公開番号（公開出願番号）：特開2002-303981
出願日： 2001年04月06日
公開日（公表日）： 2002年10月18日
要約：

【要約】【課題】高い解像力を有し、ハーフトーン位相差シフトマスク適性(サイドロープ光耐性)が良好かつ疎密依存性が低減された遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物を提供する。【解決手段】(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、酸の作用により分解する基を有する、特定の繰り返し単位を有する重合体2種、及び(C)酸拡散抑制剤を含有することを特徴とする遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物。

請求項（抜粋）：

(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、(B-1)下記一般式(Ia)及び一般式(Ib)で表される繰り返し単位の群から選択される少なくとも1種と下記一般式(II)で表される繰り返し単位とを有し、かつ酸の作用により分解する基を有する重合体、及び(B-2)下記一般式(I-1)〜(I-4)の少なくともいずれかで表される基を有する繰り返し単位を含有する、酸の作用により分解しアルカリに対する溶解性が増加する重合体を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。【化1】式(Ia)中:R1、R2は、各々独立に、水素原子、シアノ基、水酸基、-COOH、-COOR5、-CO-NH-R6、-CO-NH-SO2-R6、置換されていてもよい、アルキル基、アルコキシ基あるいは環状炭化水素基、又は下記-Y基を表す。Xは、酸素原子、硫黄原子、-NH-、-NHSO2-又は-NHSO2NH-を表す。ここで、R5は、置換基を有していてもよい、アルキル基、環状炭化水素基又は下記-Y基を表す。R6は、置換基を有していてもよい、アルキル基又は環状炭化水素基を表す。Aは単結合又は2価の連結基を表す。-Y基;【化2】(-Y基中、R21〜R30は、各々独立に、水素原子又は置換基を有していてもよいアルキル基を表す。a,bは1又は2を表す。)式(Ib)中:Z2は、-O-又は-N(R3)-を表す。ここでR3は、水素原子、水酸基、アルキル基、ハロアルキル基又は-OSO2-R4を表す。R4は、アルキル基、ハロアルキル基、シクロアルキル基又は樟脳残基を表す。式(II)中:R11,R12は、各々独立に、水素原子、シアノ基、ハロゲン原子、又は置換基を有していてもよいアルキル基を表す。Zは、結合した2つの炭素原子(C-C)を含み、置換基を有していてもよい脂環式構造を形成するための原子団を表す。【化3】一般式(I-1)〜(I-4)中;R1〜R5は同じでも異なっていてもよく、水素原子、置換基を有していてもよい、アルキル基、シクロアルキル基又はアルケニル基を表す。R1〜R5の内の2つは、結合して環を形成してもよい。

IPC (5件)：

G03F 7/039 601 ,  C08F220/10 ,  C08F222/06 ,  C08F232/08 ,  H01L 21/027

FI (5件)：

G03F 7/039 601 ,  C08F220/10 ,  C08F222/06 ,  C08F232/08 ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (37件)：

2H025AA00 ,  2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB08 ,  2H025CB10 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CB43 ,  2H025CB45 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17 ,  4J100AK32Q ,  4J100AL36P ,  4J100AL41P ,  4J100AM43Q ,  4J100AM47Q ,  4J100AR09R ,  4J100AR15R ,  4J100BA03Q ,  4J100BA04P ,  4J100BA12P ,  4J100BA20R ,  4J100BA28P ,  4J100BA53P ,  4J100BA55P ,  4J100BA55Q ,  4J100BB17Q ,  4J100BC04P ,  4J100BC07P ,  4J100CA05 ,  4J100JA38