特許

J-GLOBAL ID：200903004127593192

高解像度の円をパターニングするためのフォトリソグラフィック方法

発明者： ジャン-フレデリク クレルク ,  ドニ ランデ
出願人/特許権者： コミツサリア タ レネルジー アトミーク
代理人 (1件)： 山本 恵一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-291683
公開番号（公開出願番号）：特開平8-241856
出願日： 1995年10月16日
公開日（公表日）： 1996年09月17日
要約：

【要約】【課題】 層の上で高解像度の小さな直径の円をパターニングするフォトリソグラフィック方法を開示する。【解決手段】 層の上にレジスト層を堆積させる段階と、放射に不透明な校正された微小球体をレジスト層の表面に堆積させる段階と、前記レジスト層を前記の放射で照射する段階とを備えている。

請求項（抜粋）：

レジスト層(18)を層(19)の上に堆積させる段階と、放射に不透明であり校正された微小球体(20)をレジスト層(18)の表面の上に堆積させる段階と、前記レジスト層(18)を前記放射で照射する段階とを備え、層(19)の上に高解像度で小さな直径の円(22)をパターニングするためのフォトリソグラフィック方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/26

FI (2件)：

H01L 21/30 502 P ,  G03F 7/26