レーザトリートメント装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：須山佐一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-342795
公開番号（公開出願番号）：特開2003-135484
出願日： 2001年11月08日
公開日（公表日）： 2003年05月13日
要約：

【要約】【課題】ビーム径を絞りパワー密度を高めたレーザ光を、被照射面の広範囲に効率良くかつムラ無く照射することのできるレーザトリートメント装置を提供する。【解決手段】半導体レーザ6、球レンズ7およびヒートシンク8で構成される光学ユニット5に振動モータ10を固定しておき、この振動モータ10によって光学ユニット5を振動させ、被照射面19でのレーザ光の照射位置を高速に移動させることによって、被照射面19の広い範囲にレーザ光をスキャニング照射するように構成する。

請求項（抜粋）：

レーザ光源と、このレーザ光源から出射されたレーザ光を集光する光学系とを搭載した光学ユニットと、この光学ユニットから出射されたレーザ光の被照射面での照射位置が連続的に変化するように振動を発生する振動モータとを具備することを特徴とするレーザトリートメント装置。

IPC (2件)：

A61B 18/20 , A61N 5/06

FI (2件)：

A61N 5/06 E , A61B 17/36 350

Fターム (11件)：

4C026AA04 , 4C026BB08 , 4C026FF22 , 4C026FF23 , 4C026HH06 , 4C026HH12 , 4C082RA01 , 4C082RC09 , 4C082RE23 , 4C082RL06 , 4C082RL12

引用特許：

審査官引用 (7件)

特開昭57-037434
特開昭63-174670
特公平6-026603

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