特許

J-GLOBAL ID：200903004141266927

洗浄剤組成物

発明者： 野田 章 ,  松下由紀子 ,  中間康成
出願人/特許権者： 株式会社資生堂
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-089450
公開番号（公開出願番号）：特開平5-255696
出願日： 1992年03月13日
公開日（公表日）： 1993年10月05日
要約：

【要約】【目的】系の安定性と使用中の起泡性に優れ、使用後の髪や肌になめらかさを付与するのに優れた洗浄剤組成物を提供することを目的とする。【構成】陰イオン性界面活性剤(A) と、両性界面活性剤及び/又は半極性界面活性剤(B) と、高級脂肪酸(C) と、シリコーン誘導体(D) とを配合し、高級脂肪酸(C) と、陰イオン界面活性剤及び/又は半極性界面活性剤(B) の合計量(A)+(B) との配合比 (C)/(A)+(B) が0.002〜1であり、陰イオン界面活性剤及び/又は半極性界面活性剤(B) の合計配合量(A)+(B) が2〜50重量%、高級脂肪酸(C) の配合量が0.1〜5重量%、シリコーン誘導体(D) の配合量が0.1〜25重量%である洗浄剤組成物。

請求項（抜粋）：

陰イオン性界面活性剤(A) と、両性界面活性剤及び/又は半極性界面活性剤(B) と、一般式1:【化1】(R1 は平均炭素数7〜25の直鎖又は分岐鎖又は水酸基を有する飽和、不飽和炭化水素である。)で表される高級脂肪酸(C) と、シリコーン誘導体(D) とを配合することを特徴とする洗浄剤組成物。

IPC (8件)：

C11D 1/94 ,  A61K 7/075 ,  A61K 7/50 ,  C11D 1:90 ,  C11D 1:29 ,  C11D 1:75 ,  C11D 1:10 ,  C11D 3:37

引用特許：

審査官引用 (4件)

• シャンプー組成物およびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-014099   出願人：ヘレンカーチス.インコーポレイテッド
• ヘアーコンディショニングシャンプー組成物およびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-014098   出願人：ヘレンカーチス.インコーポレイテッド
• 特開平3-115498
  
• 特開平4-033999