特許

J-GLOBAL ID：200903004148816590

光集積回路およびその製造方法

発明者： 尾上 篤
出願人/特許権者： パイオニア株式会社
代理人 (1件)： 石川 泰男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-077824
公開番号（公開出願番号）：特開2002-277656
出願日： 2001年03月19日
公開日（公表日）： 2002年09月25日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】 簡単かつ安価に、光信号の散乱損失を低減することが可能な光集積回路およびその製造方法を提供する。【解決手段】 基板上2に形成された光検出部3と、前記基板の一主面上の前記光検出部が形成された部分以外に形成された少なくとも1層以上の遮光膜層5と、前記遮光膜層を被覆して形成された少なくとも2層以上の絶縁膜層4,6と、前記光検出部および前記絶縁膜層上に連続的に形成されたクラッド層7と、前記クラッド層上に形成された光導波路層8と、を備えた光集積回路において、前記絶縁膜層は、前記光検出部へ向かう領域において、階段上の複数の段差を形成しているように構成する。

請求項（抜粋）：

基板上に形成された光検出部と、前記基板の一主面上の前記光検出部が形成された部分以外に形成された少なくとも1層以上の遮光膜層と、前記遮光膜層を被覆して形成された少なくとも2層以上の絶縁膜層と、前記光検出部および前記絶縁膜層上に連続的に形成されたクラッド層と、前記クラッド層上に形成された光導波路層と、を備えた光集積回路において、前記クラッド層は、前記光検出部へ向かう領域において、滑らかな斜面に形成されていることを特徴とする光集積回路。

IPC (2件)：

G02B 6/122 ,  H01L 31/0232

FI (2件)：

G02B 6/12 B ,  H01L 31/02 D

Fターム (11件)：

2H047KA04 ,  2H047KA13 ,  2H047MA07 ,  2H047PA01 ,  2H047PA28 ,  2H047QA05 ,  2H047TA32 ,  5F088AB03 ,  5F088BB01 ,  5F088GA03 ,  5F088JA14